光刻質(zhì)量的好壞對產(chǎn)品的性能影響很大，是影響成品率的關(guān)鍵因素之一。隨著高密度點陣類液晶顯示器、有源矩陣液晶顯示器的飛速發(fā)展，顯示屏上的圖形越來越復(fù)雜，精密度越來越高，光刻技術(shù)就顯得更為重要。目前在生產(chǎn)中最普遍采用的光刻方法是接觸曝光法。

1)涂膠

   涂膠是光刻的首道工序，它是在IT0玻璃表面上涂一層光刻膠。涂膠效果控制好壞直接影響光刻質(zhì)量，因此在操作時應(yīng)將光刻膠按要求準(zhǔn)備好，并控制好光刻膠的涂層厚度、均性和涂層表面狀態(tài)等。

涂膠方法有浸涂、甩涂、輥涂等，其中輥涂的涂覆質(zhì)量好于其他兩種，它是通過膠輥將光刻膠均勻地涂在玻璃上。為了保證膠膜的質(zhì)量，涂膠工序應(yīng)在潔凈條件下進(jìn)行，溫度為22+3℃，濕度低于60%，并在不含紫外光成分的黃燈條件下進(jìn)行操作。

光刻膠一般在低溫避光條件下存儲，因此在使用光刻膠前一定先把膠從低溫條件下取出在使用場地放置至瓶內(nèi)膠的溫度與環(huán)境溫度相同時才能打開瓶蓋。

光刻膠的性能與光刻膠的配比有關(guān)。光刻膠配比的原則是，既要使光刻膠具有良好的抗蝕能力，又要有較高的分辨率。但是往往是互相矛盾的，不能同時達(dá)到。因此，必須根據(jù)不同的光刻對象和要求，選取不同的配比。

由于光刻膠中溶劑用量的多少決定著光刻膠的稀稠，從而影響光刻膠的厚薄。當(dāng)使用較稀的光刻膠的情況下，制備的光刻膠膜比較薄，光的散射和衍射作用的影響較弱，光刻出來的圖形清晰，邊緣整齊。當(dāng)使用較濃的光刻膠時，制備的光刻膠膜比較厚，可以用來刻蝕較厚的ITO 層。

光刻膠的配制應(yīng)在潔凈度較高的暗室中紅燈或黃燈下進(jìn)行。用量筒按配方比例將原膠及溶劑分別量好，再將溶劑倒入原膠，用玻璃棒充分?jǐn)嚢枋顾鼈兙旌稀榱私档湍z液中的固態(tài)含有率，改善膠膜和掩模版的接觸以減少膠膜針孔和提高分辨率，必須把配制好的光刻膠中未能溶解的固態(tài)雜質(zhì)微粒濾除。通常采用的方法有加壓法、吸引法、自然滴下法。此外，也可以使用自然沉淀法或高速離心沉淀法進(jìn)行過濾。過濾好的光刻膠應(yīng)裝在暗色的玻璃瓶中，并保存在陰涼和干燥的暗箱里。

涂膠前的TT0玻璃表面狀況對光刻膠與ITO層黏附質(zhì)量影響極大，在生產(chǎn)中為保證TT0與光刻膠間有良好的接觸和黏附效果，清洗后的玻璃經(jīng)紫外光照射對其表面進(jìn)行活化處理,然后再涂光刻膠。

涂膠的質(zhì)量要求有如下幾條:

>膠與TO 黏附良好，不能有膠脫落現(xiàn)象

 >涂層厚度均勻一致，不能有厚有薄，不然在顯影、刻蝕時會出現(xiàn)圖形缺陷》涂層表面狀態(tài)不能有條紋、針孔、突起等缺陷

2) 前烘

前烘的目的是促使膠膜內(nèi)溶劑充分揮發(fā)，使膠膜干燥以增加膠膜與IO表面的黏附性和膠膜的耐磨性。曝光時，掩模版與光刻膠即使接觸也不會損傷光刻膠膜和沾污掩模版。同時，只有光刻膠干燥，在曝光時，才能充分進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng)。

目前常用的前烘方式有兩種:一種是在恒溫干燥箱中烘干;另一種是用紅外爐中烘干。前者采用電熱絲加熱至一定溫度，使光刻膠從外向里逐漸干燥，干燥時間較長;后者采用紅外光輻射，光刻膠的干燥是從膠膜與IO層交界面開始逐漸向外揮發(fā)溶劑，其干燥效果好于前者且時間較短。

影響前烘質(zhì)量的主要因素是烘干溫度和烘干時間。膠膜烘烤不足時(溫度過低或時間過短)，膠膜內(nèi)的溶劑未充分揮發(fā)掉，曝光顯影時，未受光的部分也被溶除形成浮膠或使圖形變形;膠膜烘烤時間過長或溫度過高時，會導(dǎo)致膠膜翹曲硬化，在顯影時會顯不出圖形或圖形留有底膜。

3) 曝光

曝光就是在涂好光刻膠的玻璃表面覆蓋掩模版，通過紫外光進(jìn)行選擇性照射，使受光照部位的光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，改變了這部分膠膜在顯影液中的溶解度。顯影后，光刻膠膜顯現(xiàn)出與掩模版相對應(yīng)的圖形。

一般曝光的操作過程是先將曝光機的紫外光燈打開預(yù)熱，待電源穩(wěn)定，光刻版放在版框上通過顯微鏡進(jìn)行初對位。初調(diào)好的版框圖形面向下放入曝光機框架上，取一張涂有光刻膠的玻璃，膠面朝上放在曝光平臺，用定位銷定位。曝光做實驗，曝光的玻璃經(jīng)顯影取出，在顯微鏡下檢查玻璃與版對位精度，不符合要求時，通過調(diào)節(jié)平臺定位銷使版的對位標(biāo)記滿足要求。

曝光時間和曝光強度選擇是根據(jù)版的質(zhì)量、光刻膠性質(zhì)、光源強弱和光源到TTO玻璃的距離等因素來確定的，一般通過做一張試片經(jīng)顯影后檢查圖形效果再決定曝光條件。曝光時間過短，光刻膠感光不足，其化學(xué)反應(yīng)不充分，顯影時受光部分溶解不徹底，易留底膜;曝光時間過長，不該曝光部分邊緣也被微弱感光，刻蝕后圖形邊界模糊，細(xì)線條變形嚴(yán)重。

4)顯影

顯影就是將感光部分的光刻膠溶除，留下未感光部分的膠膜從而顯示所需的圖形。

顯影過程是將曝光后的玻璃放入顯影槽中，顯影液通過搖擺的噴頭噴灑在玻璃的光刻膠面上，經(jīng)過一定時間顯出圖形后，玻璃再通過水洗，將顯影液沖掉。

顯影時必須控制好時間和溫度，溫度和時間直接影響顯影速度，若顯影時間不足或溫度低，則感光部的光刻膠不能完全溶解，留有一層光刻膠，在刻蝕時，這層膠會對0膜起保護(hù)作用，使應(yīng)該刻蝕的ITO被保護(hù)下來。若顯影時間過長或溫度過高，顯影時未被曝光的光刻膠會被從邊緣向里鉆溶，使圖形邊緣變差，嚴(yán)重時會使光刻膠大片剝落形成脫膠。

5)堅膜

由于顯影時光刻膠膜發(fā)生軟化、膨脹，影響膠膜的抗蝕能力，因此顯影后必須用適當(dāng)溫度烘焙玻璃以除去水分，增強膠膜與玻璃的黏附性，這個過程叫堅膜。堅膜的方法有兩種:一種是用烘箱堅膜;另一種是用紅外光堅膜。

6)刻蝕

刻蝕是用一定比例的酸液把玻璃上未受光刻膠保護(hù)的ITO膜腐蝕掉，而將有光刻膠保護(hù)的ITO 膜保存下來，最終形成ITO 圖形。

選用的腐蝕液必須能腐蝕掉ITO膠又不能損傷玻璃表面和光刻膠，一般選用一定比例的HCI、HNO,和水的混合液。

刻蝕的溫度和時間對刻蝕效果影響很大，兩者的變化也影響到刻蝕速度。一般恒定刻蝕溫度，用時間調(diào)整刻蝕效果?？涛g時間應(yīng)由刻蝕速度和ITO膜厚度來確定，ITO膜越厚刻蝕時間就越長。

7)去膜和清洗

去膜是在一定溫度條件下，用堿液沖洗并用滾刷擦洗玻璃以保證將玻璃上殘膠去除干凈同時用滾刷擦洗玻璃，最后用高純水沖洗玻璃上殘留堿液同時沖洗殘膠。